全球首款！宇瞻科技抗硫化内存模组取得多国专利-embedcc资讯-

　　工业环境中的硫化物质将使 DRAM 模组引发化学作用而产生硫化银，并降低传导导致模组无法正常运作。因此，近几年抗硫化内存模组一直是市场上关注的焦点。

　　据了解，工控内存储存大厂宇瞻科技(Apacer)开发的全球首款抗硫化内存模组，已陆续于美国、台湾、中国取得专利。同时，宇瞻科技进一步拓展抗硫化产品布局，扩大抗硫化技术应用至 DDR4、DDR3 工业用内存中。截至目前，宇瞻科技已获得 232 项专利。

　　可以说，宇瞻科技自发表专利抗硫化内存模组以来，成功带动工控市场对于硫化议题的重视。宇瞻科技全新抗硫化内存不仅能有效解决环境污染产生的硫化腐蚀现象，提升系统整体使用寿命，亦能满足系统在恶劣环境下长时间稳定运作的需求，确保产品可靠性与耐用度。

　　不同于一般标准型内存模块相对稳定的应用环境，由于工业计算机常需于高温或高污染等环境下运作，因此工控内存产品需因应各种不同特殊的应用环境予以客制化设计。宇瞻藉由抗硫化技术强化内存模块抵抗高污染环境下硫化腐蚀问题，可大幅提升工业计算机整体系统之稳定性。

　　高污染环境中浓度超标的悬浮微粒含有大量硫化气体，易与电阻中作为导体的电极层的银材料化合产生绝缘体硫化银，导致电阻阻值增加，甚至形成开路而失效，尤以汽车电子、基地台通讯等设备因常暴露于污染大气中，出现硫化腐蚀现象影响更甚。宇瞻全新抗硫化内存模块绝佳的抗硫化特色，有效解决电阻硫化所产生的产品可靠度与耐用度问题。

　　随着工业应用情境日趋复杂、智能应用装置多元化发展，以及边缘运算终端装置崛起，推动抗硫化内存模组从特殊应用跃居至市场主流，成为从云端到终端，从资料中心、服务器到边缘装置的标准规格。同时，该趋势也引发了内存模组市场的新一波成长动能。

　　据 IDC 预测，2025 年全球数据领域中将有超过四分之一的数据为即时数据，而即时数据又在边缘运算装置的成长过程中扮演着重要的角色。

　　宇瞻科技表示，因边缘运算装置多位于条件严苛且复杂的应用环境中，客户对具备实质抗硫化效果的工业用内存模组需求也随之增长，从而带动了抗硫化内存模组的采用率。此外，IPC 产业领导厂商持续关注内存硫化问题，深知内存硫化对工业电脑、网通与服务器产品可靠度及使用寿命的影响，要求导入抗硫化内存模组，藉此增进产品附加价值并创造差异化。

　　宇瞻科技从加速硫化实验中发现，一般内存模组于高温、高浓度含硫的环境中，不到200小时就会开始出现硫化腐蚀情形，造成故障问题。宇瞻科技专利抗硫化内存采用特殊的合金材质来达到最高的抗硫化效果，其元件均通过抗硫化ASTM B809-95测试规范，于105度的高温、高浓度含硫环境下仍可稳定正常运作超过1000小时，提升抗硫化耐用度高达5倍以上，以实质确保产品可靠度与耐用度，满足系统长时间稳定运作之需求，进而有效提升系统整体使用寿命。

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