一文解析平行光曝光机原理及图形转移技术

end祥 · 发表于 2018-6-17 11:17:38

　　随着电子产品高精度成像的需求，对印制电路板的设计与制造的要求也越来越高。这推动了PCB生产所需的曝光设备的研制。为此研发出平行光曝光设备是制作密集细线路的关键。文章介绍了平行曝光机工作原理及图形转移技术，跟随小编来详细的了解一下吧。
　　平行光曝光机的特点�
　　这个类型的设备只有一个灯管，曝光台面也是分有上下方两个镜子，使用的是光线折射的原理。当两个面同时进行曝光的时候，上下灯的曝光是分开的。上等先进行曝光，一面镜子将光线反射到台面的上方镜子，然后再折射到曝光台面上。下灯曝光时，光线是直接直射到下方的镜子里然后在折射到台面上，因此说使用品行曝光机进行曝光的时候，上灯的能量会比下灯的能量要更大一些，曝光及级数才会一样。
　　平行光曝光机工作原理�
　　1、光源

　　图1是高压水银弧光灯构造图。印刷电路板制程中干膜曝光所需的光源大致而言以近紫外光为主，波长范围为：400爊m爚

一文解析平行光曝光机原理及图形转移技术

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