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IR授权英飞凌科技使用DirectFET封装技术
时间:2007-09-25 来源:21IC中国电子网
本文引用地址: http://power.21ic.com//dc/infor/200709/22472.html
国际整流器公司 (International Rectifier,简称IR) 与英飞凌科技股份有限公司 (Infineon Technologies) 共同宣布,后者将获授权使用IR的DirectFET先进功率管理封装专利技术。DirectFET 功率封装是业界首个在SO-8或更小占位面积,提供高效上部散热的表面贴装功率MOSFET封装技术,适用于计算机、笔记本电脑、电信和消费电子设备的AC-DC及DC-DC功率转换应用。与标准塑料分立封装相比,DirectFET的金属罐构造具有双面散热功能,因而可有效将高频DC-DC降压式转换器的电流处理能力增加一倍。
英飞凌将把DirectFET功率封装技术应用于旗下的OptiMOS 2和OptiMOS 3芯片技术,预计在2008年初开始提供DirectFET封装的OptiMOS 2样品。
IR企业功率业务部副总裁Tim Phillips表示:“由于采用了独特的双面散热设计,IR的DirectFET封装技术可以降低能量损耗,减小设计占位面积,是先进计算、消费及通信应用首选的解决方案。”
他还表示:“我们不断为节省能源开发尖端技术,并通过授权协议扩大 DirectFET这类创新技术在节能方面的影响力,进一步扩展我们在功率管理市场最主要领域的业务。”
英飞凌科技功率管理及驱动器业务部高级副总裁兼总经理Arunjai Mittal表示:“根据这项协议,英飞凌将继续扩充旗下的功率半导体产品系列。把我们成功的OptiMOS芯片技术与不同封装规格相结合,以适应广泛的应用,使电源设计师可以为特定应用采用节能的、有成本效益的解决方案。OptiMOS 2和OptiMOS 3器件本身具有卓越的特性,现在加上具有双面散热能力的封装,将进一步巩固英飞凌在功率转换市场的地位。”
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